実験装置

当研究グループで使用している主な装置を以下に示す.この中には,他グループの管理する共同利用装置も含まれる.

実験装置は皆の共有財産であると,我々は考えています.この考えに基づき,他研究グループと相互に装置使用の便宜を図っています.当方のルールに従って頂く必要性,場合による費用負担がありますし,また全ての装置をオープンにしているわけではありませんが,学内外を問わず以下の装置に興味のある方は,当研究グループに連絡を下さい.共同研究のみならず,装置の共同利用は互いの研究・開発に役立つものと思います.

透過電子顕微鏡(TEM)
JEOL JEM 2010 Cs = 0.5 mm [ナノ計測システム] JEOL JEM200CX 傾斜角 ±60°
走査電子顕微鏡(SEM)
Hitachi S-****  [ナノ計測システム]
TEMホルダー保存デシケーター  作:浜田
JEM2010用  ターボ分子ポンプ < 10-5 Torr JEM200CX用  ロータリーlポンプ ~ 10-3 Torr
TEM用フィルムデシケーター
特注加工 ~10-3 Torr  組立:有田,石川善,宮城,大窪
電気抵抗測定用プローバーシステム
Nagase ***** 低温用 10 K ~ RT(電極数:6) 室温用 **** 電極数:*
半導体パラメーターアナライザー
Agillent 4156C HP 4145B
冷凍機型極低温電気測定システム
Nagase **** 10 K ~ RT (電極数:24) 磁気抵抗効果測定システム (4 K ~ RT,電極数:5)
Toei **** 15 kOe + Nagase ****
試料振動型磁力計(VSM)
Toei **** 5 kOe, 80 K ~ 600 K, 最小レンジ 10-2 emu
77K ~ RT の磁気抵抗効果測定も可能
電気抵抗測定システム (自研究室組立)
低抵抗用  システム1 高抵抗用 システム2
成膜装置
分子線エピタキシー成膜装置(MBE) Anelva **** 
電子銃3機搭載,RHEED,~10-11 Torr,最大 300℃
超高真空成膜装置 1号機  自作 
10-9 ~ 10-10 Torr,電子銃2機搭載,組成傾斜複合膜作成可能,最大 900℃
超高真空成膜装置 2号機  Neva 
10-8 Torr,電子銃1機+抵抗加熱蒸発源,最大 300℃
スパッタ成膜装置 Canon-Anelva **** 
カソード3機搭載,** Torr,最大 300℃
汎用蒸着装置 JEOL ***** 改造
10-6 Torr,最大 600℃,抵抗加熱蒸発源2
スピンコーター
CPUファン利用 (しめて7000円なり) 作製:北市,石川(善)
回転数: 500rpm & 2500 rpm (スイッチによる2段切換え)
熱処理装置
赤外線加熱炉 *****,仕様: マッフル炉 ****,最大 1100℃
シリコニット炉 ****,最大 ***℃
TEM,SEM用イオンミリング装置
JEOL JIT-100 フラットミリング装置 Hitachi *****
X線回折装置
Rigaku RAD2C Rigaku **** [共同利用装置(超強力X線施設)]

その他,他グループの所有する以下の装置も使用して研究を行なっている.

電子ビーム描画装置

光リソグラフィー装置

両面マスクアライナー

反応イオンエッチング装置 (RIE)