2026年9月23日～25日に北海道(日本)で開催された、電子情報通信学会ソサイエティ大会において、2件の口頭発表を行いました。

発表に関する情報(発表者, タイトル)

• 木村巧 (発表当時 博士課程2年), “フェムト秒レーザ描画によるLPFG型モード依存損失等化デバイスの製造誤差耐性の調査“
• 三原颯太 (発表当時 修士課程1年), “DNANFにおける製造誤差が損失特性に与える影響“