著書、論文など
1. 査読付き学術誌論文
(1) 樋口俊郎, 渡辺正浩, 工藤謙一，圧電素子の高速変形を利用した超精密位置決め機構の研究，精密工学会誌, 54(11), 2107-2112 (1988).
(2) M. Watanabe, Y. Oshida, Y. Nakayama, R. Funatsu, A. Inagaki, A. Fujii, and T. Ninomiya, Shot leveling and focusing with laser interferometry for optical lithography of sub-half-micron LSI, Japanese Journal of Applied Physics, 32(12B), part 1, 5867-5873 (1993).
(3) Y. Nakayama, M. Watanabe, Y. Oshida, and M. Yoshida, Accuracy improvement of shot leveling and focusing with interferometry for optical microlithography, Japanese Journal of Applied Physics, 33(12B), part 1, 6866-6873 (1994).
(4) S. K. Nayar, M. Watanabe, and M. Noguchi, Real-time focus range sensor, IEEE Trans. on Pattern Analysis and Machine Intelligence, 18(12), 1186-1198 (1996).
(5) M. Watanabe and S. K. Nayar, Telecentric optics for computational vision, IEEE Trans. on Pattern Analysis and Machine Intelligence, 19(12), 1360-1365 (1997).
(6) M. Watanabe and S. K. Nayar, Rational filters for passive depth from defocus, International Journal of Computer Vision, 27(3), 203-225 (1998).
(7) 広井 高志，田中 麻紀，宍戸 千絵，渡辺 正浩，複数の評価関数を用いたロバストなLSI パターンの位置合わせ方法，電気学会論文誌C，124（3），621-628 (2004).
(8) Toshihiko Nakata, and Masahiro Watanabe, Common-path/double-pass optical interferometry using a wire-grid polarizer as a reference mirror, Optical Review, 15(6), 276-279 (2008).
(9) Toshihiko Nakata, and Masahiro Watanabe, Ultracompact and highly sensitive common-path phase-shifting interferometer using photonic crystal polarizers as reference mirror and phase shifter, Applied Optics, 48(7), 1322-1327 (2009).
(10) Toshihiko Nakata, Masahiro Watanabe, Nanometer-resolution optical probe using a metallic-nanoparticle-intercalated carbon nanotube, Journal of Applied Physics, Vol. 109,Issue 1, pp. 013110-013110-5 (2011).
(11) Masahiro Watanabe, Shuichi Baba, Toshihiko Nakata, Takafumi Morimoto, Satoshi Sekino and Hiroshi Itoh, Atomic force microscope method for sidewall measurement through carbon nanotube probe deformation correction, J. Micro/Nanolith. MEMS MOEMS, Vol. 11, 011009 (Mar. 2012).
(12) Yuko Otani, Yuta Urano, Toshifumi Honda, and Masahiro Watanabe, Enhanced Scattered Light Imaging of Nanoparticles by Controlling the Polarization Distribution with Photonic Crystals, Jpn. J. Appl. Phys. Vol. 52, 052001 (May 2013).
2. 査読付き国際会議論文
(1) T. Higuchi, H. Yusof, and M. Watanabe, Micro actuators using recoil of an ejected mass, Proc. IEEE Micro Robot and Teleoperators Workshop (1987).
(2) M. Watanabe, Y. Matsumoto, H. Ohnari, H. Matoba, and K. Matsuzaki. Intelligent manufacturing planning system., Proc. Int'l Conf. on Industrial Electronics, Control and Instrumentation (IECON'91), 81-86 (1991).
(3) M. Watanabe, Y. Oshida, and Y. Nakayama, Shot leveling and focusing with laser interferometry for optical lithography of sub-half-micron LSI, Proc. Micro Process Conference 93, 148-149 (1993).
(4) M. Watanabe, Y. Oshida, Y. Nakayama, and M. Yoshida., Focusing and leveling based on wafer surface profile detection with interferometry for optical lithography., Proc. of SPIE: Optical/Laser Microlithography VII, 2197, 980-989 (1994).
(5) Y. Nakayama, M. Watanabe, Y. Oshida, and M. Yoshida. Accuracy improvement of shot leveling and focusing with interferometry for optical microlithography, Proc. Micro Process Conference 94, 58-59 (1994).
(6) S. K. Nayar, M. Watanabe, and M. Noguchi. Real-time focus range sensor, Proc. of Intl. Conf. on Computer Vision, 995-1001 (1995).
(7) S. K. Nayar, M. Noguchi, M. Watanabe, and Y. Nakagawa., Focus range sensors, Proc. of Intl. Symp. on Robotics Research (ISRR'95), 7, 378-390 (1995).
(8) M. Watanabe, S. K. Nayar, and M. Noguchi., Real-time computation of depth from defocus, Proc. of SPIE: Three-Dimensional and Unconventional Imaging for Industrial Inspection and Metrology, 2599, 14-25 (1995).
(9) M. Watanabe and S. K. Nayar., Telecentric optics for computational vision, Proc. of European Conference on Computer Vision, II, 439-453 (1996).
(10) M. Watanabe and S. K. Nayar., Telecentric optics for computational vision, Proc. of Image Understanding Workshop (IUW 96), 781-786 (1996).
(11) M. Watanabe and S. K. Nayar, Minimal operator set for texture invariant depth from defocus. Proc. of IEEE Conf. on Computer Vision and Pattern Recognition, 431-438 (1996).
(12) M. Tanaka, J. Inoue, K. Watanabe, and M. Watanabe, Detection Threshold Optimization and Application of In-line SEM Inspection, Proc. of Eleventh International Symposium on Semiconductor Manufacturing (ISSM2002), 397-400 (2002).
(13) T. Hiroi, C. Shishido, and M. Watanabe, Pattern Alignment Method Based on Consistency Among Local Registration Candidates for LSI Wafer Pattern Inspection, Proc. of 6th IEEE Workshop on Applications of Computer Vision (WACV 2002), 257-263 (2002)
(14) Masahiro Watanabe, Shuichi Baba, Toshihiko Nakata, Toru Kurenuma, Hiroshi Kuroda, and Takenori Hiroki, An Advanced AFM Sensor for High-Aspect Ratio Pattern Profile In-line Measurement, Proc. of SPIE: Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography XX 6152, 61522A, 24 (2006).
(15) Masahiro Watanabe, Shuichi Baba, Toshihiko Nakata, Toru Kurenuma, Yuichi Kunitomo, and Manabu Edamura, An Advanced AFM Sensor: Its Profile Accuracy and Low Probe Wear Property for High-Aspect Ratio Patterns, Proc. of SPIE: Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography XXI 6518, 6518-137 (2007).
(16) Manabu Edamura, Yuichi Kunitomo, Takafumi Morimoto, Satoshi Sekino, Toru Kurenuma, Yukio Kembo, and Masahiro Watanabe, Shuichi Baba, and Kishio Hidaka, New Inline AFM Metrology Tool Suited for LSI Manufacturing at the 45-nm Node and Beyond, Proc. of SPIE: Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography XXI 6518, 6518-139, Feb. 26 (2007).
(17) Masahiro Watanabe, Shuichi Baba, Toshihiko Nakata, Takafumi Morimoto, and Satoshi Sekino, A Novel AFM Method for Sidewall Measurement of High-Aspect Ratio Patterns, Proc. of SPIE 6522, 6522-18 (2008).
(18) Masahiro Watanabe, Shuichi Baba, Toshihiko Nakata, Hiroshi Itoh, Takafumi Morimoto, and Satoshi Sekino, AFM Method for Sidewall Measurement through CNT Probe Deformation Correction and its Accuracy Evaluation, Proc. of SPIE 7272, 72721P (2009).
(19) Keisuke Yoneyama, Hajime Igarashi, Taketo Ueno, Toshifumi Honda, Masahiro Watatabe, FDTD Analysis of Ultraviolet Waves Scattered from Dielectric Surfaces, 30th JSST Annual Conference (JSST 2011) International Conference on Modeling and Simulation Technology, October 22-23, 2011.
(20) T. Tanaka, H. Murayama, K. Takahashi, K. Hattori, M. Watanabe, Direct Measurement of Strand Temperature of Turbo-generator with FBG Sensors, Proc. of CIGRE, A1_109_2012, 2012.
3. その他の論文(査読なし国際会議，研究会，シンポジウム等の論文）
(1) 樋口俊郎, Hojjat Yusof, 渡辺正浩，衝撃電磁力を利用した微小位置決め機構の開発（第６報 移動現象の解析），昭和62年度精密工学会春季大会学術講演会論文集, 895-896(1987).
(2) 樋口俊郎, 渡辺正浩, Hojjat Yusof,衝撃電磁力を利用した微小位置決め機構の開発（第７報 ＸＹΘ精密位置決めテーブルの制御），昭和62年度精密工学会春季大会学術講演会論文集, 897-898(1987).
(3) 樋口俊郎, 工藤謙一, 渡辺正浩，圧電素子の急速変形を利用した超精密位置決め機構，昭和62年度農業機械学会第２３回関東支部年次大会講演要旨集, Vol. 23, 12(1987).
(4) 渡辺正浩, 樋口俊郎, 工藤謙一，圧電素子の急速変形を利用した超精密位置決め機構，昭和62年度精密工学会秋季大会学術講演会論文集, 325-326 (1987).
(5) 樋口俊郎, 渡辺正浩, 工藤謙一，圧電素子の急速変形を利用した超精密位置決め機構（第２報）−移動現象に及ぼす諸因子の影響−，昭和63年度精密工学会春季大会学術講演会論文集(1988).
(6) 中川泰夫, S. K. Nayar, 野口稔, 渡辺正浩，Shape from focus 法，第36回デジタルイメージング技術研究会 (1986).
(7) 中川泰夫, S. K. Nayar, 野口稔, 渡辺正浩，Shape from focus 法による3次元形状計測，3次元形状計測の基礎と実験 (1986).
(8) 中川泰夫, S. K. Nayar, 野口稔, 渡辺正浩，高速距離画像検出技術−フォーカスレンジセンサ−，品質計測における信号処理技術フォーラム (1987).
(9) 田中麻紀，渡辺正浩，SEM用光学式オ−トフォーカスセンサの開発，第42回自動計測連合講演会予稿集，4002, (1999).
(10) 馬塲修一，渡辺正浩，中田俊彦，西田哲也，ステップインモードAFMの高速化の検討，秋季第64回応用物理学会学術連合講演会予稿集，31p-ZD-6/II(2003).
(11) 馬場修一, 渡辺正浩, 中田俊彦, 榑沼透, 黒田浩史, 廣木武則，半導体検査用インラインAFM，LSIテスティングシンポジウム/2006予稿集, 35-40 (2006).
(12) 中田俊彦，渡辺正浩，ワイヤーグリッド偏光子を参照ミラーに用いた共通光路干渉計の検討，Optics & Photonics Japan 2007(日本光学会年次学術講演会), 28pB2 (2007).
(13) 中田俊彦 渡辺正浩，フォトニック結晶偏光子を参照ミラー及び位相シフタに用いた超小形・高感度共通光路位相シフト干渉計，Optics & Photonics Japan 2008(日本光学会年次学術講演会), 6aC4 (2008).
(14) 中田俊彦 渡辺正浩，金ナノ粒子充填カーボンナノチューブを用いたナノメートル分解能光プローブ，2009年秋季 第70回応用物理学会学術講演会, 9A-ZM-8 (2009).
(15) 中田俊彦 渡辺正浩，フォトニック結晶偏光子を参照ミラー及び位相シフタに用いた超小形・高感度共通光路位相シフト干渉計（受賞講演），Optics & Photonics Japan 2009(日本光学会年次学術講演会), 26pAS2 (2009).
(16) 杉原慶彦，本田敏文，浦野雄太，渡辺正浩，野口聡，五十嵐一，散乱光データを利用した半導体ウェハ上欠陥種分類手法，平成21年度電気・情報関係学会北海道支部連合大会(2009).
(17) 杉原慶彦，本田敏文，浦野雄太，渡辺正浩，野口聡，五十嵐一，散乱光分布を利用した半導体ウエハ上欠陥種分類手法，ViEW(ビジョン技術の実利用ワークショップ)2009, E-5H(I-33) (2009).
(18) 中田俊彦，立崎武弘，渡辺正浩，ナノメートル分解能光プローブにおける近接場光生成に対する内部金ナノ構造の寄与，2010年秋季 第70回応用物理学会学術講演会, 16p-NK-8 (2010).
(19) 中田俊彦，立崎武弘，渡辺正浩，プローブ走査系に光干渉変位センサを組み込んだ超高分解能ＡＦＭ（I） - 超小形・高感度光干渉変位センサ -，2010年秋季 第70回応用物理学会学術講演会, 16a-P9-23 (2010).
(20) 渡辺正浩，立崎武弘，中田俊彦，プローブ走査系に光干渉変位センサを組み込んだ超高分解能ＡＦＭ(II) -装置構成と性能評価結果-，2010年秋季 第70回応用物理学会学術講演会, 16a-P9-24 (2010).
(21) 大谷 祐子 渡辺 正浩 浦野 雄太，フォトニック結晶を用いた偏光分布制御によるナノ粒子散乱像の強調，2011年春季第58回応用物理学会関係連合講演会, 25a-KR-1 (2011).
(22) 大谷 祐子 渡辺 正浩 浦野 雄太，ナノ粒子散乱光の偏光変換による散乱光強度の強調，2011年秋季第72回応用物理学会関係連合講演会，30a-B-15 (2011).
(23) 中田俊彦 渡辺正浩，原子間力顕微鏡に組み込んだ超小形・高感度光干渉変位センサによる探針走査機構のピコメートル分解能測定，Optics & Photonics Japan（日本光学会年次学術講演会）, 30PC1, November 2011.
(24) 張 開鋒，廣瀬丈師，渡辺正浩，徳冨照明，磁気力顕微鏡を応用した磁気ヘッド素子磁界幅検査技術の開発，2012年秋季第73回応用物理学会関係連合講演会，13p-H6-11 (2012).
(25) 針山 達雄,笠井 啓晃,吉田 実,吉村 和士,渡辺 正浩，光コムレーザを用いた形状計測技術の開発，2012年度精密工学会秋季大会学術講演会論文集, I22 (2012).
(26) 張開鋒，廣瀬丈師，渡辺正浩，徳冨照明，磁気力顕微鏡を応用した磁気ヘッド素子磁界幅検査技術の開発（2），2013年第60回応用物理学会春季学術講演会,30a-A8-5 (2013).
(27) 服部 竜己，下田 勇一，石井 晴幸，斎藤 佳大，中尾 敏之，渡辺 正浩，吉武 康裕，合田 圭介，欠陥検査のための空間-時間列変換を用いた超高速撮像技術，Study of Ultra-High-Speed Imaging using Space-Time Conversion for Defect Inspection，第74回応用物理学会秋季学術講演会,17p-C13-4 (2013).
(28) 張 開鋒，廣瀬丈師，渡辺正浩，杉山敏教，磁気力顕微鏡を応用した磁気ヘッド素子磁界幅検査技術の開発，第37回日本磁気学会学術講演会,5pA-13 (2013).
(29) 岩崎 匠史，金井 理，渡辺 正浩，谷口 敦史，3D計測点群に基づく形状検査のためのTTRSモデルの拡張，2013年度精密工学会北海道支部学術講演会, C-20（2013年8月).
(30) 岩崎 匠史，金井 理，渡辺 正浩，谷口 敦史，３次元幾何公差検証のための計測点群への形体フィッテングアルゴリズムライブラリの提案，2014年度精密工学会春季大会学術講演会（2014年3月予定）.
4. 解説記事
(1) 塩崎篤，小野貴通，渡辺正浩，桑原雅之，最新のDUV光学式ウェーハ外観検査装置，日立評論，85(4), 317-320 (2003).
(2) Atsushi Shiozaki, Masahiro Watanabe, Takayuki Ono, and Masayuki Kuwabara, New DUV Optical Wafer Inspection System, HITACHI REVIEW, 52(3), 152-156 (2003).
(3) 榑沼透，見坊行雄，森本高史，渡辺正浩，45 nmノードLSIに対応する高速インラインAFM「WA3300」, 日立評論, 89(4), 346-347 (2007).
(4) 渡辺正浩,中田俊彦，ナノ立体形状の定量計測 — 探針補正技術と高感度光干渉変位センサー —，日立評論，第94巻，第2号，pp.52-55, Feb. 2012..
(5) 渡辺正浩，超小型・高感度干渉変位センサーを組み込んだ高精度原子間力顕微鏡，光学，42巻，2号，pp83-88,解説 Feb. 2013.
(6) 渡辺正浩，SPMの産業応用についての展望，精密工学会誌，第79巻，3号.pp195-199, Mar. 2013.
5. 特許
国内成立済み36件。出願中11件。米国特許登録済み38件。
6. 受賞
(1) 平成 元年 ３月，論文「圧電素子の高速変形を利用した超精密位置決め機構の研究」により，精密工学会から「昭和63年度 精密工学会賞」を受賞。
(2) 平成 ３年 ４月，発明「圧電・電歪素子を用いた衝撃力による微小移動装置」（特開昭63-299785，1987/5/29出願）の発明により，「科学技術庁第50回注目発明」を受賞。
(3) 平成14年10月，論文「Detection Threshold Optimization and Application of In-line SEM Inspection」 により，11th International Symposium on Semiconductor Manufacturingの主催者から「Best Poster Award」を受賞。
(4) 平成21年 11月，「Ultracompact and Highly-Sensitive Interferometric Displacement Sensor」の開発により，米国R&D Magazineから「2009 R&D100 Awards」を受賞。
(5) 平成21年 11月，論文「フォトニック結晶偏光子を参照ミラーおよび位相シフタに用いた超小型・高感度共通2重光路位相シフト干渉計の開発」により日本光学会から「第12回光設計優秀賞」を受賞。
(6) 平成23年 11月，「Picometer-Resolution Quantitative Metrology Atomic Force Microscope: QM-AFM」の開発により，米国R&D Magazineから「2011 R&D100 Awards」を受賞。
7. 学会活動
・精密工学会事業部会事業企画第2グループ委員(平成8年4月〜平成12年3月）
・日本学術振興会 産学協力研究委員会 ナノプローブテクノロジー第167委員会, 運営委員（平成19年4月〜現在）
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