本学量集センター、東京大学、愛媛大学との共同研究の成果がNanoscale Advances(IF:5.6)に掲載されました。

Wafer-scale integration of GaAs/AlGaAs core–shell nanowires on silicon by the single process of self-catalyzed molecular beam epitaxy
K. Minehisa, R. Murakami, H. Hashimoto, K. Nakama, K. Sakaguchi, R. Tsutsumi, T. Tanigawa, M. Yukimune, K. Nagashima, T. Yanagida, S. Sato, S. Hiura, A. Murayama, and F. Ishikawa
Nanoscale Advances 5, 1651-1663 (2023). [doi] [PRESS RELEASE]